ICS31.030
L90
中华人民共和国国家标准
GB/T29056—2012
硅
外延用三氯氢硅化学分析方法
硼、铝、磷、钒、铬、锰、铁、钴、镍、
铜、钼、砷和锑量的测定
电感耦合等离子体质谱法
Trichlorosilaneforsiliconepitaxy—Determinationofboron,aluminium,
phosphorus,vanadium,chrome,manganese,iron,cobalt,nickel,
copper,arsenic,molybdenumandantimonycontent—Inductively
coupledplasmamassspectrometricmethod
2012-12-31发布 2013-10-01实施
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局
中国国家标准化管理委员会发布前 言
本标准按照GB/T1.1—2009给出的规则起草。
本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC203)提出并归口。
本标准起草单位:南京中锗科技股份有限公司、南京大学现代分析中心、南京大学国家863计划新
材料MO源研究开发中心。
本标准主要起草人:郑华荣、刘新军、龚磊荣、张莉萍、黄和明、陈逸君、虞磊。
ⅠGB/T29056—2012
硅外延用三氯氢硅化学分析方法
硼、铝、磷、钒、铬、锰、铁、钴、镍、
铜、钼、砷和锑量的测定
电感耦合等离子体质谱法
警告———使用本标准的人员应有正规实验室工作的实践经验。本标准并未指出所有可能的安全问
题。使用者有责任采取适当的安全和健康措施,并保证符合国家有关法规规定的条件。
1 范围
本标准规定了用电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS)测定硅外延用三氯氢硅(SiHCl3)中硼、铝、磷、
钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、钼、砷、锑等痕量元素含量的方法。
本标准适用于硅外延用三氯氢硅(SiHCl3)中硼、铝、磷、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、钼、砷、锑等含量
的测定。各元素测定范围见表1。
表1
元 素 测定范围(质量分数w)/%
B 0.000000001~0.000002
Al 0.000000001~0.000002
P 0.000000001~0.0000002
V 0.0000000005~0.000002
Cr 0.000000001~0.000002
Mn 0.000000001~0.000002
Fe 0.000000001~0.000002
Co 0.0000000005~0.0000002
Ni 0.000000001~0.000002
Cu 0.000000001~0.000002
Mo 0.0000000005~0.0000002
As 0.000000001~0.000002
Sb 0.000000001~0.000002
2 方法提要
乙腈能与一些金属氯化物生成稳定络合物。于三氯氢硅中加入乙腈,在常温下,用氮气载带挥发分
离基体,残留的SiO2用氢氟酸溶解转化为SiF4挥发除去。再用1%HNO3溶解残渣,溶液用ICP-MS
测定。
1GB/T29056—2012
3 试剂
3.1 乙腈:分析纯,经石英蒸馏器于81.0℃蒸馏两次提纯,每升乙腈弃去最初馏分(50~60)mL和末
馏分(60~70)mL,取中间馏分保存于石英容器中。
3.2 氢氟酸:超纯试剂(Ultrapure,ρ=1.13g/mL)。
3.3 甘露醇:准确称取5g优级纯甘露醇溶于500g超纯水中配制成1%水溶液保存在聚乙烯瓶中。
3.4 超纯水:电阻率为18.2MΩ·cm。
3.5 硝酸:超纯试剂(Ultrapure,ρ=1.40g/mL)。
3.6 混合标准贮存溶液:含B、Al、P、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Mo、As、Sb等元素,浓度为10μg/mL。
3.7 钇标准贮存溶液:10μg/mL。
3.8 钇标准溶液:10ng/mL。移取100μL钇标准贮存溶液(3.7)于100mL容量瓶中,加入2mL
HNO3,用超纯水稀释至刻度。
3.9 氮气:纯度≥99.999%。
4 仪器及设备
电感耦合等离子体质谱仪。
5 分析步骤
5.1 安全措施
三氯氢硅遇明火强烈燃烧,受高热分解产生有毒的氯化物气体,与氧化剂发生反应,有燃烧危险,极
易挥发,在空气中发烟,遇水和水蒸气能产生热和有毒的腐蚀性烟雾。在三氯氢硅取样及样品处理过程
中,要禁止明火,禁止高热,禁止与空气及水等物质的接触。
5.2 试料
量取30mL试样。
5.3 测定数量
独立地进行三份试样的测定,取其平均值。
5.4 空白试验
随同试样做空白试验。
5.5 测定
于洁净干燥的铂金坩埚中加入1mL乙腈(3.1),量取30mL试样,并注入铂金坩埚中,将坩埚放入
石墨蒸发器中,通入氮气(3.9)(流量0.8L/min)形成流动的氮气环境,使三氯氢硅常温下缓慢地挥发
除尽,取下熏蒸器盖,在坩埚内加入0.1mL1%的甘露醇溶液和1mL氢氟酸(3.2),调温至110℃~
120℃,直至SiO2完全溶解并蒸干,冷却取出坩埚,在每个坩埚内加入1mLHNO3(1∶99)充分摇动,
使残渣完全溶解,溶液待测。
按仪器工作条件,与标准溶液同时测定试液中各杂质元素的质量浓度,其中内标钇(Y)标准溶液
(3.8)通过三通管在线加入。
2GB/T29056—2012
5.6 工作曲线的绘制
分别移取0μL、20μL、50μL、100μL混合标准溶液(3.6)置于4个洁净的100mL的聚乙烯容量
瓶中,加入2mL的硝酸(3.5),用去离子水稀释至刻度,此标准系列中含B、Al、P、V、Cr、Mn、Fe、Co、
Ni、Cu、As、Mo、Sb浓度各为0ng/mL、2.0ng/mL、5.0ng/mL、10.0ng/mL。按要求设置仪器条件
(5.8),待仪器稳定后测定工作曲线。
5.7 ICP-MS测定条件
5.7.1 具体测量参数见附录A。
5.7.2 测定各元素含量时选取的同位素见表2。
表2
测定同位素 内标同位素
11B、27Al、47Ti(PO)、51V、52Cr、55Mn、56Fe、59Co、60Ni、65Cu、75As、95Mo、121Sb89Y
5.8 注意事项
5.8.1 制样室及仪器室均为洁净室,其洁净度(每立方米0.5μm的颗粒个数)至少需达千级标准。且
温度需保持恒定(25℃左右)。
5.8.2 铂金坩埚在每次使用前进行净化处理。具体方法:用10%MOS级盐酸溶液煮沸10min后用
去离子水洗净,重复两次,烘干后备用。
6 结果计算
6.1 按拟定条件进行ICP-MS测定,计算机自动测量,以待测元素的ICPS对其浓度c绘制工作曲线,
同时计算出空白及试料溶液中待测元素的含量。
6.2 按式(1)计算待测元素的质量分数:
W(x%)=(m2-m1)·V1×10-9
ρ·V2×100%…………………………(1)
式中:
W(x%)———分别为硼、铝、磷、矾、铬、锰、铁、钴、镍、铜、钼、砷、锑的质量分数,以质量百分数表
示(%);
m1———工作曲线上查得空白试验的杂质元素的浓度,单位为纳克每毫升(ng/mL);
m2———工作曲线上查得试料中杂质元素的浓度,单位为纳克每毫升(ng/mL);
V1———测定溶液的体积,单位为毫升(mL);
V2———量取试样的体积,单位为毫升(mL);
ρ———三氯氢硅的密度,单位为克每毫升(g/mL)。
所有样品需进行三次平行试验,最终结果取平行样品测量结果的算术平均值。
7 精密度
7.1 重复性
在重复性条件下获得两次独立的测量结果,以下给出平均值范围内,这两个测量结果的绝对差值不
3GB/T29056—2012
超过重复性限(r),超过重复性限(r)的情况不超过5%,重复性限(r)按表3数据采用线性内插法求得。
表3
WB/% 0.000000001 0.00000001 0.0000001 0.000001
r/% 0.000000001 0.000000005 0.00000002 0.00000016
WAl/% 0.000000001 0.00000001 0.0000001 0.000001
r/% 0.0000000008 0.000000004 0.00000003 0.00000018
WP/% 0.000000001 0.00000001 0.0000001 0.000001
r/% 0.000000001 0.000000005 0.00000003 0.00000020
WV/% 0.0000000005 0.00000001 0.0000001 0.000001
r/% 0.0000000004 0.000000004 0.00000002 0.00000016
WCr/% 0.000000001 0.00000001 0.0000001 0.000001
r/% 0.0000000009 0.000000006 0.00000002 0.00000012
WMn/% 0.000000001 0.00000001 0.0000001 0.000001
r/% 0.0000000007 0.000000006 0.00000003 0.00000016
WFe/% 0.000000001 0.00000001 0.0000001 0.000001
r/% 0.0000000009 0.000000005 0.00000003 0.00000023
WCo/% 0.0000000005 0.00000001 0.0000001 0.00000
GB-T 29056-2012 硅外延用三氯氢硅化学分析方法 硼 铝 磷 钒 铬 锰 铁 钴 镍 铜 钼 砷和锑量的测定 电感耦合等离子体质谱法
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